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【24h】

走査型非線形誘電率顕微鏡と静電気力顕微鏡を用いた SiO_2 上剥離WSe2 におけるキャリア分布観察

机译:使用扫描非线性介电常数显微镜和静电力显微镜在SiO_2剥离WSE2中的职业分布观察

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摘要

層状半導体であるWSe_2 は数原子層以下の層数においても半導体としての性質を示すため,電子デバイスへの応用が期待されている.実際,これまでにWSe_2 を用いて両極性動作するFETなどが試作されている.層状半導体材料?デバイスの研究では,キャリア分布をナノスケールで評価可能な手法が有用である.山末,長らは,最近,走査型非線形誘電率顕微鏡(SNDM)を数層MoS_2 に適用し,キャリア種同定とそれらの分布観察が可能であることを明らかにした .
机译:由于作为分层半导体的WSE_2,也预期将应用于电子设备,以便即使在几个原子层的层数或更小的层数中也表现为半导体的性质。事实上,到目前为止使用WSE_2运行的FET等,因此已经使用WSE_2进行了原型。分层半导体材料器件研究是可以评估纳米级载体分布的有用方法。只要亚胺,最近将扫描非线性介电常数显微镜(SNDM)施加到几层MOS_2并且可以识别载体物种及其分布观察。

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