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水素雰囲気異方性熱エッチング(HEATE)法におけるアンモニア添加を利用した高アスペクトp-GaNナノ構造の作製

机译:氢气氛中氨加入的高方面P-GaN纳米结构的制备各向异性热蚀刻(加热)方法

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摘要

窒化物半導体ナノ構造は、歪緩和効果や貫通転位隔離効果による発光効率の向上、光取出し効率の向上や指向性制御など、光デバイスの性能向上をもたらす技術として期待される。我々は、これまでに GaN の熱分解反応を利用した水素雰囲気異方性熱エッチング(HEATE)法を提案し、GaNナノ構造の形成やアンモニアガス添加効果等について報告してきた。本稿では、アンモニアの効果を利用した HEATE 法による高アスペクトGaNナノ構造の作製について報告する。
机译:预期氮化物半导体纳米结构作为提供光学装置的性能改进的技术,例如由于应变松弛效应和穿线辨别隔离,改善光提取效率和方向控制而改善发光效率。我们提出了一种使用GaN的热分解反应的氢气氛各向异性热蚀刻(加热)方法,并报道了GaN纳米结构的形成和氨气加入的作用。在本文中,我们通过使用氨效应的加热方法报告高方面GaN纳米结构的制造。

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