光照射とポリシラザン塗布法を用いた緻密性の異なる蒸着SiO2 膜形成 PET フィルム上への緻密膜形成とガスバリア特性

摘要

近年、柔軟性に富hだ電子デバイスを作製するフレキシブルエレクトロニクスが注目を集めて いる。しかし、デバイスを構築する有機樹脂基板の低ガスバリア性が問題となっている。一般的な解決策と して、真空蒸着法による有機フィルム上へ緻密な酸化膜形成が行われるが、膜の均一性、緻密性に欠けるた め、ガスバリア性の向上に限界がある。本研究では、異なる緻密性を持つSiO2 蒸着PET 上へ形成したポリシ ラザン(PHPS)塗布膜への光熱同時処理による低温かつ簡便な緻密SiO2膜形成と膜表面の改変によるガスバリ ア特性の向上について検討した。