低速ディップコーティングによるSn ドープWO3 薄膜の作製 およびエレクトロクロミック特性の評価

摘要

酸化タングステン（WO3）膜は、電圧を印可することによって色が可逆的に変化するエレクトロク ロミック特性を有するため、調光ガラス用膜として利用されている。エレクトロクロミック材料においては、 イオン伝導性の高い非晶質膜の方が、結晶性の膜よりも高い着脱色速度を示すことが知られている。演者ら は、有機成分を含まない金属塩水溶液から酸化物薄膜を作製可能な新たなコーティング手法として低速ディ ップコーティングを提案してきた[1]。本研究では、低速ディップコーティングによって有機成分を含まない (NH4)10W12O41 水溶液から成膜した無機成分のみから成るWO3 前駆体膜を200 °C で低温焼成することにより 非晶質WO3 エレクトロクロミック膜を作製し、そのエレクトロクロミック特性を評価した。また、非晶質 WO3 膜にSn4+イオンをドープし、エレクトロクロミック特性への影響を調査した。