高感度固体吸着アクティブサンプラーを用いた半導体製造環境雰囲気の短時間汚染評価その2

摘要

半導体製造工程における、コンタミネーションコントロールは製品の歩留まりを上げるために重要となる。そのため、製品の製造雰囲気中の汚染状況を把握することが必要である。一般に、半導体製造雰囲気の分子状汚染物質（AMC)は指針にも示されているように、目的成分ごとに異なった手法でサンプリングおよび測定が行われている。特にイオン成分については、測定感度を得られる十分な量を吸収液に捕集するため24時間といった長時間の通気が必要である。そのため、装置内などの局所空間では容量の制限があること、またプロセス間でのAMCの変化を調査するた鋸こは時間の制限があることから、評価に必要な測定感度が得られず、必ずしも十分な手法ではなかった。また、近年海外での分析ニーズに対応するためには輸送が困難な水を使用しない吸収剤にて捕集することが望ましいとされてきた。