テープ光電光度法を用いた微量HF検知器の開発

摘要

HF、HCl、SOx、NOx等の酸性ガスは、クリーンルーム（C/R）等の環境において、腐食をはじめとした様々な問題の要因となる。半導体製造におけるシリコンウエハのエッチングや洗浄、液晶ディスプレイ等のFPD製造工程等から発生するフッ化水素（HF）は、微量の漏洩による工業用設備の腐食、デバイスの動作不良等の設備影響に加え、人体への健康影響が顕著である。そのため、HFの許容濃度について、ACGIHは時間加重平均（TWA）を0．5ppmに改訂し、国内でも管理濃度を3ppmから0．5ppmとする事が妥当であるとの見解が2008年に厚生労働省より示されている。