首页> 外文会议>年度精密工学会大会学術講演会 >磁気混合流体を用いた研磨加工に及ぼす工具と加工面との間隔の影響
【24h】

磁気混合流体を用いた研磨加工に及ぼす工具と加工面との間隔の影響

机译:工具与加工表面之间距离对抛光处理的影响

获取原文
获取外文期刊封面目录资料

摘要

近年,機器や部品の小型化が進hでおり,それに伴う形で複雑形状を有する小型の金型の需要が増えている.この金型研磨においては複雑形状の表面を鏡面にし,かつ,高精度の形状精度に仕上げる必要がある.この様な状況で,磁場に応答する磁気混合流体(MCF)を用いた研磨加工が注目されている.MCF の磁気クラスターは細長く弾力性を有しており,この性質を生かした研磨法が期待されている.著者らはMCF の平面研磨においてパルス磁場(周波数f = 0.1 Hz)の場合,比較的平坦に加工されることを報告している.そこで,本研究ではMCFを用いた研磨の直流磁場と周波数f = 0.1 Hz のパルス磁場における,工具と研磨面との間隔が表面性状に及ぼす影響を明らかにすることを目的とした.これは凹面など複雑形状面の研磨加工において,研磨工具の2 次元運動のみによる研磨の可能性についての基礎データになる.さらに,研磨工具の揺動運動での直流磁場とパルス磁場の違いを明らかにした.
机译:近年来,设备和零件的小型化是进步的H,以及对伴随形式的具有复杂形状的小模具的需求正在增加。在该模具抛光中,必须在镜面上制造复杂形状的表面,并以高精度的形状精度完成。在这种情况下,响应于磁场的磁性混合流体(MCF)的抛光处理是引起关注的。 MCF磁性簇具有细长的弹性,并且预计将抛光使用此属性。作者报道,MCF的平面抛光中的脉冲磁场(频率f = 0.1Hz)相对平坦地处理。因此,在该研究中,旨在使用MCF和频率f = 0.1Hz的脉冲磁场阐明工具和抛光表面之间的距离与抛光表面之间的距离的影响。这是抛光工具在抛光过程中仅抛光工具的抛光过程中的抛光过程中的抛光过程中的两维运动的基本数据。此外,阐明了抛光工具的摆动运动中的直流磁场和脉冲磁场之间的差异。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号