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アクティブスクリーンプラズマ浸炭による γ 系ステンレス鋼の拡張オーステナイト相形成におけるバイアス電率の影響

机译:活性筛等离子体渗碳对γ型不锈钢膨胀奥氏体相形成偏压的影响

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摘要

オーステナイト系ステンレス鋼について,耐食性を損なわずに硬さを高められる拡張オーステナイト相(S 相)を形成させる方法として,アクティブスクリーンプラズマ処理法による低温浸炭/窒化が研究されているが,従来の直流プラズマ法に比べ大幅に時間がかかる.そこで,著者らは従来の直流プラズマ処理にアクティブスクリーンを併用させた低温プラズマ浸炭処理の研究を進めている.これまでに,メタン(CH_4)と水素のガス流量比率により形成効率に最適値があることがわかった.本研究では S 相の形成に及ぼすバイアス電流の影響について検討し,形成した S 相の硬さや耐摩耗性についても調査を行った.
机译:作为形成能够增强硬度而不损害耐腐蚀性的膨胀奥氏体相的方法,也研究了低温渗碳/氮化通过活性筛网血浆处理,但与法律相比,常规的直流等离子体需要很多时间。因此,作者正在通过在常规的DC等离子体处理中使用活性筛网进行低温等离子体渗碳处理进行研究。到目前为止,发现甲烷(CH_4)和氢气的气体流量比具有最佳的形成效率。在这项研究中,我们检查了偏置电流对S相形成的影响,并研究了所形成的S相的硬度和耐磨性。

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