HTS バルク磁石への複数回パルス着磁；去における残留磁場分布形状に対する磁束侵入

摘要

その微細組織にピン止め点が導入された超伝導バルク磁石（以後バルク磁石）は優れた磁場捕捉性能をもつ。簡便にこのバルク磁石を磁化する方法にパルス着磁法があるが、その過程で、すでに磁化された試料のもつ磁場分布が、続いて印加されるパルス磁場の侵入に強く影響することはすでに知られている。本研究では、複数回着磁において磁場印加前に捕捉されている様々な形状の磁場分布が、最終的な捕捉磁場とその分布にどのように影響するかを実験的に調査した。捕捉磁場の形状と続く磁場印加による発熱との関係を明らかにしてさらなる捕捉磁場性能の向上をねらう。