机译:在大气压下在流化床反应器中通过化学气相沉积获得的多层涂层(AP / FBR-CVD):TiN / TaN和TiN / W
机译:通过在大气压下在流化床反应器中化学气相沉积获得的TiN / SiNx亚微米多层涂层(AP / FBR-CVD)
机译:在大气压下在流化床反应器中通过化学气相沉积法制备的TiSiN纳米复合涂层(AP / FBR-CVD)
机译:通过大气压流化床化学气相沉积对细二氧化硅微球的保形多层涂层
机译:通过等离子体增强化学气相沉积合成功能性多层涂层。
机译:通过引发的振动基材的化学气相沉积对粉末的共形涂层
机译:间隙硼掺杂的TiO2薄膜:硼在大气压化学气相沉积中生长的TiO2涂层上的显着作用
机译:大气压化学气相沉积在线涂覆氧化锡玻璃