Fused silica; LIDT; OH-content; fusing process;
机译:355 nm激光诱导的熔融石英中减轻的损伤部位的损伤的表征
机译:关于抛光引起的熔融石英光学元件污染对351 nm激光诱导的损伤密度的影响
机译:使用小孔径损伤测试解释大孔径激光器中熔融石英的激光诱导损伤行为
机译:激光诱导熔融二氧化硅损伤248 nm
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:通过连续照射能量密度低于激光诱发损伤阈值的飞秒激光观察和分析熔融石英的结构变化
机译:抛光引起的熔融石英光学元件的污染和351 nm下的激光诱导的损伤密度
机译:激光诱导的损伤在1064nm的颗粒污染熔融石英表面上引发