Silica; Surface Contamination; Sputtering; Laser Radiation; Damage; Windows; Testing; Us National Ignition Facility; Optical Equipment;
机译:纳秒范围内激光诱导的熔融石英损伤密度与1064nm处平均培养通量之间的相关性
机译:关于抛光引起的熔融石英光学元件污染对351 nm激光诱导的损伤密度的影响
机译:胶态二氧化硅和二氧化铈抛光的熔融石英光学元件的表面缺陷表征和激光诱导的损伤性能
机译:激光诱导的熔融石英在355和1064 nm处的损坏是由表面上的铝污染颗粒引起的
机译:超快激光诱导表面结构对不锈钢和熔融二氧化硅进行光学性质改性
机译:制造过程中熔融石英的表面分子结构缺陷和激光诱导的损伤阈值
机译:激光诱导的损伤在1064nm的颗粒污染熔融石英表面上引发
机译:激光诱导的损伤在1064nm的颗粒污染熔融石英表面上引发