Prufung aspharischer Oberflachen durch scannende Interferometrie

摘要

In der Optikindustrie herrscht ein stetiger Trend hin zu engeren Toleranzen bezuglich Formabweichungen, sowie zunehmender Komplexitat der Objekte. Dadurch steigen ebenfalls die Anforderungen an die Messtechnik zur Qualitatskontrolle. An dieser Stelle wird daher ein auf der Mehrwellenlangen-Interferometrie basierendes Metrologiesystem vorgestellt, dass Formabweichungen im Nanometerbereich erfassen kann. Durch die Verwendung eines scannenden Messprinzips in Kombination mit einem hochgenauen Referenzierungskonzept wird weiterhin eine hohe Flexibilitat erreicht. Die Metrologieplattform kann durch geeignete Erweiterungen auch zur Erfassung von Mass- und Lageparametern genutzt werden. Zwei aktuelle Entwicklungen in diesem Bereich werden erlautert und erste Messergebnisse prasentiert.