LB films; Copolymer; Photopatterning; Chemically amplified resist;
机译:基于化学放大机理的LB薄膜光图案化的新方法
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机译:基于化学放大机理纳米片薄膜的PhotoPatter
机译:基于断链机理的193 nm光刻技术探索非化学放大抗蚀剂。
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