Mask 3D Effect; Best Focus Shift; SRAF Optimization;
机译:晶界和界面陷阱对3D NAND闪存装置电特性的影响
机译:由于栅极区域中修改的单元结构,增强了3D NAND闪存装置的电气特性
机译:NAND闪存的可靠性:平面单元和3D设备中的新兴问题
机译:遮罩3D对1Xnm NAND闪存器件的触点布局的影响
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:用于NAND闪存设备的压缩辅助自适应ECC和RAID分散
机译:NAND闪存的可靠性:平面单元和3D设备中出现的问题