机译:O_2和N_2退火对电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备氧化钽薄膜电学性能的影响。
机译:电子回旋共振等离子体沉积Ta_2O_5的金属绝缘体金属电学特性
机译:通过电子束蒸发沉积的等离子体蚀刻应用的氧化铬(Cr2O3)薄膜结构,光学和表面性能的影响
机译:钽阳极氧化物的电学和光学性质与电子束沉积Ta_2O_5薄膜的电子回旋共振刻蚀研究
机译:通过微波,傅立叶变换红外光谱和原子吸收光谱法确定的气相物质的绝对浓度与沉积在电子回旋共振反应器中的二氧化硅膜的特性相关。
机译:a-钽-钛薄膜库上生长的阳极氧化物的性质
机译:电子回旋共振沉积SiOxNyHz薄膜的光学和结构性质及其与组成的关系