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乱流燃焼場における速度3 成分と複数化学種蛍光の時系列同時面計測

机译:时序序列同时测量速度三分成分和湍流燃烧农场的多化物种荧光

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摘要

乱流燃焼は,乱流と火炎(燃焼反応)が非常に相互に干渉する非常に複雑な現象である.多くの実用燃焼器で乱流燃焼が用いられているにもかかわらず,数値的にも,実験的にも取り扱いが困難であることから,その詳細は明らかにされていない.乱流燃焼場を実験的に明らかにするには,乱流と火炎を同時に測定することが必要となる.非燃焼乱流の計測と同様,乱流燃焼においても速度計測には粒子画像流速計(PIV)が頻繁に用いられている.乱流燃焼では火炎構造も計測する必要があり,これには平面レーザ誘起蛍光法(PLIF)が有効である.燃焼場ではOH,CH,CH_2O 等の燃焼過程で生じる中間生成物のPLIF が用いられる.最も良く用いられる化学種はOH であり,これは既燃ガスにおいて高い濃度を示す.OH ラジカルでは火炎位置が多少曖昧になることから,火炎面において鋭いピークを示すCH ラジカルもPLIF 計測に頻繁に用いられる.ただし,CH ラジカルの蛍光は微弱なため計測は難しい.
机译:湍流燃烧是一种非常复杂的现象,湍流和火焰(燃烧反应)非常干扰彼此。尽管使用具有许多实际燃烧器的湍流燃烧,但其详细的细节尚未澄清,因为它难以通过实验处理。为了实验阐明湍流燃烧场,有必要同时测量湍流和火焰。与非燃烧湍流的测量一样,即使在湍流燃烧中,颗粒图像流程图(PIV)通常用于速度测量。在湍流燃烧中,还需要测量火焰结构,并且平面激光诱导的荧光法(PLIF)是有效的。在燃烧场中,使用在燃烧过程中产生的中间产物如OH,CH,CH2O。最常用的化学物质是OH,其在可燃气体中表现出高浓度。在OH基团中,由于火焰位置变得略微模糊,所以在火焰表面中显示尖锐峰的CH基团也经常用于PLIF测量。然而,CH基团的荧光是弱的,因为它弱。

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