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【24h】

両面同時研磨における上定盤研磨パッド表面性状測定装置の開発と研磨特性評価への応用

机译:双面同时抛光垫表面特性测量装置中表面样测装置的研制及应用于磨蚀特性评价

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摘要

本研究では両面同時研磨のメカニズム解明に資する試みとして,接触画像解析法に基づく上下定盤に貼り付けた研磨パッド表面性状の評価に着目した.既報にて両面同時研磨装置における上定盤の研磨パッド表面性状の測定を可能とする装置を開発した(図1).本報告では,両面同時研磨における初期コンディショニングにて,研磨パッド表面状態と研磨レートの関係を調査した.
机译:在这项研究中,我们基于接触图像分析方法将抛光垫表面特性的评估专注于连接到上固定片的抛光垫表面特性,以试图为双面共同抛光等等而有助于贡献。利用交叉报告,已经开发了一种用于测量上板的抛光垫表面特性的装置,已经开发出双面同时抛光装置中的上板(图1)。在本报告中,通过双面共同抛光中的初始调节研究了抛光垫表面状态和抛光速率之间的关系。

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