シリコン太陽電池製造に向けたPFCガスフリーな大気圧ドライエッチング技術の開発

摘要

現在，市場の主力をなす結晶Si太陽電池の製造工程では，ウェット，ドライ，真空など様々な環境下での表面処理技術が用いられており，製造コストの増大につながっている．このため，さらなる低コスト化のためには，大気圧一貫かつドライ環境下で実施可能，かつスループットの高い処理技術が求められている．とりわけ，太陽電池製造工程においてエッチング技術は欠くことのできない表面処理技術であり，加工変質層の除去など様々な目的で用いられている．一般的にこの様なエッチング処理をプラズマによるドライエッチングで行う場合，F_2などのハロゲンガス，もしくはCF_4等に代表されるperfluorocarbon（PFC）ガスが必要となる．ここで前者は反応性·毒性が非常に高いため，使用時のみならず保管時にも格段の注意が必要となる．また後者は，地球温暖化係数（GWP）が非常に高いため，使用の削減が望まれている．