机译:应变Si和SiGe的碰撞电离率
机译:掺入电介质袋(VESIMOS-DP)的垂直应变直击式电离MOSFET的掺杂浓度分析
机译:采用双通道垂直应变SIGE冲击电离MOSFET(VESIMOS)的击穿电压降低分析
机译:应变SiGe对包含电介质袋(VESIMOS-DP)的垂直应变SiGe冲击电离MOSFET性能的影响
机译:SiGe PMOS器件上的总电离剂量辐射效应和负偏置温度不稳定性
机译:生产无缺陷SiGe应变纳米层的新策略
机译:掺杂浓度分析垂直应变-SiGe碰撞电离MOSFET介电袋(VESIMOS-DP)的性能分析