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ATOMIC LEVEL SIMULATION OF OXYGEN DIFFUSION IN YTTRIA-STABILIZED ZIRCONIA

机译:氧化钇稳定氧化锆中氧扩散的原子水平模拟

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摘要

We have used molecular dynamics to study the dependence of oxygen diffusion in bulk yttria-stabilized zirconia on the yttria content. Oxygen diffusion occurs by the vacancy mechanism, and the diffusion coefficient showed a peak at 8 mole% yttria. The activation energy for oxygen diffusion varied from about 0.6 to 1.0 eV depending on the yttria content, in good agreement with experimental observations. The results indicate that the oxygen vacancy prefers to bind to Zr~(4+) rather than to Y~(3+), and this defect-dopant interaction determines the composition dependence of the oxygen diffusion coefficient.
机译:我们已经使用了分子动力学来研究氧气扩散在氧化钇含量上的氧氧稳定氧化锆中的依赖性。通过空位机制发生氧气扩散,并且扩散系数在8摩尔%的ytTRIa下显示出峰。氧气扩散的激活能量根据ytTria含量与实验观察结果良好的氧化含量而变化为约0.6至1.0eV。结果表明,氧空位更喜欢与Zr〜(4+)而不是Y〜(3+)结合,并且该缺陷掺杂剂相互作用决定了氧漫射系数的组成依赖性。

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