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Combining Nano-Scale Inert-Gas Ion Microscopy and Secondary Ion Mass Spectrometry

机译:结合纳米级惰​​性气体离子显微镜和二次离子质谱法

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摘要

This contribution reports on the ongoing development of a new instrument that combines a scanning helium/neon ion microscope (FIGURE 1), based on a gaseous field-ion source (GFIS), with a secondary ion mass spectrometer (SIMS). The new instrument approaches the limits of spatial resolution achievable in scanning ion microscopy and SIMS analysis, benefitting nano-scale microscopy, metrology and materials characterization.
机译:该贡献有关正在进行的新仪器的持续发展,该仪器基于气体场 - 离子源(GFIS),将扫描氦/氖离子显微镜(图1)结合在具有二次离子质谱仪(SIMS)。新仪器涉及扫描离子显微镜和SIMS分析中可实现的空间分辨率的限制,受益于纳米级显微镜,计量和材料表征。

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