傾斜蒸着法による酸化チタンのナノ構造体作製

摘要

傾斜角度成膜法（GLAD法）は，自己組織化ナノ構造を容易に創製することができる低コストな新規蒸着法であり，対象材料は電子，光学，バイオ，触媒他に広く応用される金属，半導阻絶縁物など多種にわたっている.GLAD法は，従来成膜法である物理蒸着法（pvD法）から発展した手法で，図1に示すように基板に対して斜め方向から成膜することを特徴とする。柱状の膜構造がGLAD法のシャドー効果によってナノレベルで創製でき，この柱状構造の形状は蒸着方向に対応して基板を種々のモードで回転することによって高度に制御することが可能となる.