対向拡散CVD法を用いたシリカ複合膜の細孔径制御

摘要

低炭素社会実現のため、エネルギー変換などの種々のプロセスの効率化が求められている。例えば、石油化学工業では300°C程度での炭化水素成分を分離が注目されている。当研究グループでは、オゾン系対向拡散CVD法にて、シリカ源として用いるシリコンメトキシドの一部をプロピル基に置換したPropyltrimethoxysilane（PrTMOS）を用いて細孔径の制御を行っている。しかし、蒸着メカニズムは不明瞭である。そこで本研究では、プロピル基よりも側鎖の長いHexyltrimethoxysilane（HTMOS）をシリカ源として用い、PRTMOSとの比較およびそれぞれの加水分解物の分解挙動を調べることで、蒸着メカニズムの検討を行った。