薄膜創製デザインにおけるコンピュテーショナルテクノロジー戦略

摘要

本研究では，大阪大学－松下電器産業の産学共同研究により開発してきた，計算科学による原子レベルからの薄膜創製デザインについて紹介する．このプロジェクトは，大きく3 つのカテゴリーから構成されている．まず，第一原理計算を援用した界面材料スクリーニング法として酸化物薄膜/高分子基材界面の評価について，次に薄膜創製プロセスのマルチスケールシミュレーションとしてスパッタリング成膜時における動的モンテカルロ(KMC)法と分子動力学(MD)法を組み合わせたハイブリッドシミュレーションによる薄膜成長過程の解析について，そして第一原理計算による界面の構造健全性の評価と応用について説明する．