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クエン酸ニッケル浴から得られた下地用ニッケル電析皮膜の耐食性評価

机译:从柠檬酸镍浴中获得的镍电沉积膜的耐腐蚀性评价

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摘要

ワット浴に含まれるホウ酸中のホウ素が,環境基準に追加され,ホウ素の排水基準値(10ppm)が厳しくなり,ホウ酸代替として,食品, 食物に含まれるクエン酸を用いたクエン酸ニッケル浴が有効であり,皮膜物性および電気化学·構造学的に解析した報告はみられるが,耐食性についてはなされていない. 本研究では,金電析皮膜の下地としてクエン酸ニッケル浴からの光沢剤有無のニッケル皮膜,ニッケル-リン結晶質·非晶質皮膜を作製し,それらの耐食性について検討を行った.
机译:瓦氏酸盐中含有硼酸的硼加入环境标准中,硼的排水参考值(10ppm)变得严重,并且作为硼酸取代,使用食品和食品中包含的柠檬酸镍酸浴是有效的并且可以看到薄膜物理性质和电化学和结构报告,但它们没有用于耐腐蚀性。在该研究中,制备具有或不具有来自柠檬酸镍浴,磷晶体和非晶膜的光泽剂的镍膜,检查耐腐蚀性。

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