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スルフアミン酸浴から形成したニッケルーマンガン電析合金めつきの物性評価

机译:氨基磺酸浴形成镍锰电沉积合金的物理性能评价

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摘要

これまで電析めっき皮膜の用途は,装飾や防食が中心で あった。しかしながら,近年では機能的な用途への展開も活 発となっている。その中でもニッケル(以降,Niと記述)電 析めっきは,機械的,電気的な機能が必要とされる用途に用 いられることが多い。%Electroplated nickel films have physical properties such as high hardness and low internal stress, which result from the inclusion of stressreducing agents. However, sulfur inclusion causes brittleness when the plated films are exposed to a high-temperature environment. Nickel sulfide, which is formed when sulfur in a stress-reducing agent is included in plating, decreases the cohesive force of the crystal grains. This phenomenon, called sulfur brittleness, is an important difficulty related to electroplated nickel films. In the case of nickel electroforming for MEMS, the plating films must have low internal stress, high hardness, and high heat resistance without becoming brittle from sulfur inclusion. Many researchers have investigated nickel alloy plating as a way of suppressing this phenomenon. This study specifically assesses various properties of nickel manganese alloy plating. Results show the possibility of producing heat-resistant plated films while maintaining the required properties. ;Electroplating; Ni-Mn Plating; MEMS
机译:迄今为止,电沉积镀膜的应用主要用于装饰和防腐。然而,近年来,向功能应用程序的扩展也变得活跃。其中,镍(以下称为Ni)电沉积镀覆经常用于需要机械和电气功能的应用中。 %电镀镍膜具有物理性质,例如由于加入了减应力剂而具有高硬度和低内应力的特性,但是当电镀膜暴露于高温环境中时,硫的夹杂会导致脆性,形成硫化镍当电镀中包含减应力剂中的硫时,会降低晶粒的内聚力,这种现象称为硫脆性,是与电镀镍膜有关的一个重要困难。在用于MEMS的镍电铸的情况下,电镀薄膜必须具有低内应力,高硬度和高耐热性,并且不会因夹杂硫而变脆。许多研究人员已经研究了镍合金镀层作为抑制这种现象的方法,这项研究专门评估了镍锰合金镀层的各种性能。结果表明保持所需的pr的同时生产耐热镀膜的可能性操作;电镀;镍锰电镀; MEMS

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  • 来源
    《表面技術》 |2017年第10期|564-569|共6页
  • 作者单位

    関東学院大学大学院工学研究科(〒236-8501 神奈川県横浜市金沢区六浦東1-50-1),株式会社ォジックテクノロジーズ(〒860-0079 熊本県熊本市西区上熊本2-9-9);

    株式会社ォジックテクノロジーズ(〒860-0079 熊本県熊本市西区上熊本2-9-9);

    関東学院大学 材料•表面工学研究所(〒250-0042 神奈川県小田原市荻窪1162-2);

    関東学院大学 材料•表面工学研究所(〒250-0042 神奈川県小田原市荻窪1162-2);

    関東学院大学大学院工学研究科(〒236-8501 神奈川県横浜市金沢区六浦東1-50-1),関東学院大学 材料•表面工学研究所(〒250-0042 神奈川県小田原市荻窪1162-2);

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