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【24h】

Fe-45at%Pd合金薄膜の磁場誘起運動歪に及ぼす成膜時の基板温度の影響

机译:磁场诱导磁场诱导运动菌株在磁场诱导运动菌株时底物温度的影响,Fe-45at%Pd合金薄膜

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摘要

本研究グループではこれまでにFe-SmやFe-Tbなどの磁歪材料について成膜条件を変化させることで磁歪量や素子全体の運動歪が向上することを確認した。しかしながら、本研究グループが報告した磁歪感受率において優れた特性を示すFe-45at%Pd合金薄膜については、成膜条件と各歪の関係について詳しく調査されていなかった。そこで本研究では、DCマグネトロンスパッタリング法によりFe-45at%Pd合金薄膜素子を作製し、その特性に及ぼす成膜時の基板温度の影響について検討を行うことを目的とした。
机译:在该研究组中,通过改变诸如Fe-SM和Fe-Tb的磁致伸缩材料的膜形成条件,确认了整个元件的磁致节度量和运动应变。然而,对于Fe-45at%Pd合金薄膜,在该研究组报道的磁致伸缩敏感性中表现出优异的特性,尚未详细研究了成膜条件和变形之间的关系。因此,在本研究中,通过DC磁控溅射法在%Pd合金薄膜元件中产生Fe-45的目的,并检查在膜形成时基板温度对特性的影响。

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