lithography; EUV; light source; laser plasma; xenon; absorption; stability; fast ion;
机译:高平均功率的EUV光源,用于通过激光产生的等离子体进行下一代光刻
机译:用于HVM EUV光刻的激光生产的基于锡等离子体的EUV光源技术的开发
机译:基于带多重电荷的锡和氙离子的非平衡等离子体非均匀流动中基于微波放电的EUV光源建模
机译:基于激光生产的氙气等离子体的高平均功率清洁EUV光源设计
机译:在放电产生的EUV等离子体源中通过反应离子蚀刻清洁锡屑。
机译:基于辐射流体动力学模型的激光产生锡等离子体的EUV辐射演化分析
机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发