electron emission; thin films; plasma CVD; vapour deposition; scanning electron microscopy; Raman spectroscopy; powders; nanoparticles; diamond; silicon; enhanced electron emission; diamond film; pre-seeded Si substrate; nanosized diamond power; microwave plasma chemical vapor deposition method; three-step deposition process; pre-seeded mirror polished silicon wafer; scanning electron microscopy; Raman spectroscopy; in-situ stress; low-field electron emission; high emission current; Si;
机译:以纳米级金刚石功率增强了沉积在预接种硅衬底上的金刚石膜的电子发射
机译:氮掺杂金刚石薄膜增强热电子发射的基质-金刚石界面考虑
机译:上电极射频功率控制的超磁控等离子体沉积用于场发射的类金刚石非晶碳膜
机译:以纳米级金刚石功率以粉末形式读取的功率,增强了沉积在预接种硅衬底上的金刚石膜的电子发射
机译:通过等离子合成的金刚石和相关薄膜的场电子发射增强了化学气相沉积。
机译:具有增强的场电子发射性能的掺锂纳米晶金刚石薄膜的低温合成
机译:硅衬底上氮掺杂金刚石薄膜的热增强光诱导电子发射
机译:用碱金属卤化物涂覆化学气相沉积金刚石薄膜的稳定二次电子发射