机译:纹理的IBAD-TiN缓冲层在涂层导体结构中的应用
机译:使用IBAD,PLD方法和“自外延”二氧化铈缓冲液,可快速生产缓冲基材并进行长距离涂覆的导体开发
机译:Zn_(1-x)Mg_xO:B的特性及其在具有和不具有CdS缓冲层的Cu(In,Ga)(S,Se)_2太阳能电池中作为透明导电氧化物层的应用
机译:用于HTS应用的新导电IBAD缓冲区
机译:用于涂覆的高温超导导体的(001)铜上的导电缓冲剂的形核和外延。
机译:使用GaN缓冲层在透明导电(2̅01)取向的β-Ga2O3上形成高质量的III氮化物膜
机译:IBAD-PLD方法 - IBAD缓冲液 - 自外延PLD-CEO2帽层LONG YBCO涂层指挥的开发 -
机译:基于IBaD YsZ工艺的连续加工YBCO涂层导体缓冲层结构比较