ナノパーティクル測定機の検出精度の向上と洗浄効果の評価

摘要

今回、再度平均粒径39nmと28nm の2 種類のPSL と新たに34nmのPSLに対して、開発したナノパーティクル測定システムにより測定を試みた。その結果、粒径34nm と28nm の標準ナノパーティクルを精度良く計測できていることを示した。さらに、PSLの粒径分布に含まれる粒径24.8nm のパーティクルも検出できていることを示した。また、平均粒径34nmと28nmの標準ナノ粒子を散布したSi ウエハに対してHFとO3を用いたウエット洗浄法を用いて洗浄し、ウエット洗浄により粒径30nm 以下のPSL のパーティクルに対して除去効果があることを示した。