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ナノ表面研削/ELID研削における新プロセステクノロジー

机译:纳米表面研磨/ ELID研磨新工艺技术

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摘要

先端研究から産業界に至るナノ·マイクロ領域の進歩に伴い,様々なキーコンポーネントの研究開発が進hでいる.光·電子,表面機能,ダウンサイジングを始め,機能と構造とを兼ねるデバイスの創成には,ナノ精度(形状と粗さの両立)を目指した微細加工が重要と認識される.こうした観点から,サイズ,精度,機能を目的に応じて選択·制御できる独自の新しいプロセステクノロジーの創出に努めている.こうした背景において,加工プロセスの進化と,それによる加工対象物のダウンサイジング,そして自由曲面形状に対応した形状加工に対応したソフトウェアシステム,さらには環境制御による加工表面機能の創成などをターゲットとして,研究開発を進めている.本報では,ELID の原理を進化·発展させ,他の加工プロセスとの連携も視野に入れ推進しているいくつかのアプローチについて紹介する.
机译:随着纳米微区域的推进从高级研究的行业,各种关键部件的研究和开发是进展的。为了创建作为功能和结构(例如功能和结构)加倍的设备,旨在既有功能和结构的精细处理对于创建纳米精度(与形状和粗糙度兼容),识别出重要的处理。从这个角度来看,我们努力根据规模,准确性和功能的目的创建和控制独特的新工艺技术。在这种背景下,处理过程的演变和处理对象的下施加和对应于与自由曲面形状对应的形状处理的软件系统,以及通过环境控制的处理表面功能的创建。我们正在推广发展。在本报告中,我们将发展和发展ELID的原则,并介绍在视野和与其他处理过程中促进促进的一些方法。

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