オンチップ細胞サージェリーシステムのためのナノニードルアレイの開発―シリコンのドライエッチング特性の評価

机译：用于片上细胞手术系统的纳米美元阵列的研制 - 硅干蚀刻特性评价

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本研究では，細胞への高効率·高精度な遺伝子導入や細胞の機能解明を行うためのオンチップ細胞サージェリーシステムの開発を目標としている．本報では，化学·生化学物質（遺伝子，タンパク質，薬剤など）の注入·採取を行うためのナノニードルアレイ作製のために必要となるマイクロマシニング技術として，高アスペクト比のエッチングが可能な反応性イオンエッチング（Deep RIE）およびXeF_2ガスを用いたシリコンのエッチング特性を明らかにした．

机译：在这项研究中，我们的目的是开发一种用于进行高效和高精度的基因转移和细胞功能阐明的片上细胞手术系统。在本报告中，高纵横比蚀刻反应性可以作为制备用于注射和收获化学和生化物质（基因，蛋白质，药物，药物等）的纳米通漏所需的微加工技术来使用离子蚀刻的蚀刻性能（深rie）和Xef_2天然气被澄清。

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来源
《精密工学会学術講演会》|2005年||共2页
会议地点
作者
伊藤圭介; 柴田隆行; 水上良明; 堀内宰; 増澤徹; 峯田貴; 牧野英司;
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正文语种
中图分类 TG5-53;
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