ヘリコン高周波マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の耐摩耗性に及ぼす酸素分圧の影響

摘要

酸化アルミニウム(Al_2O_3)は熱的安定性と高硬度を有するため，プラスチックレンズやAl 反射ミラー等の表面保護膜，半導体デバイスの絶縁膜など，光学や半導体分野に広く利用されている．また，熱的に安定で高硬度を持つことから，切削工具の耐摩耗性を改善することを目的に実用化されている被覆工具の被覆材料としての利用も期待できる．本研究ではヘリコン型高周波マグネトロンスパッタ装置によりAl_2O_3膜をSUS基板上に製膜し，スパッタ時の酸素分圧が耐摩耗性等の機械的特性に及ぼす影響について検討した．