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【24h】

The Influence of Surface Termination on the Electrochemical Properties of Boron Doped Semiconducting Diamond Electrodes

机译:表面终端对硼掺杂半导体金刚石电极电化学性能的影响

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摘要

Recently a number of papers have been published on the electrochemical properties of boron doped diamond films.In cyclic voltammetric studies performed using a range of electron couples oxidation and reduction peaks characteristic of redox reactions at metallic surfaces are observed.This despite the fact that diamond is a wide band-gap semiconductor.
机译:最近,已经公布了硼掺杂金刚石薄膜的电化学性质的一些论文。使用一系列电子耦合的循环伏安研究,观察到在金属表面的氧化还原反应的氧化氧化和还原峰值上进行。尽管钻石是这样的事实宽带间隙半导体。

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