机译:使用Langmuir探针和发射光谱技术研究中空阴极反应离子蚀刻反应器中SF_6和SF_6 / O_2等离子体。
机译:氩等离子体中铂蚀刻过程中再沉积的模拟
机译:等离子体蚀刻反应器的反馈控制可改善蚀刻均匀性
机译:用高温阴极蚀刻副产物沉积分析和对照等离子体反应器中的控制
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:阴极腐蚀开始时对铂电极的各向异性蚀刻
机译:等离子体蚀刻反应器的反馈控制用于改善蚀刻均匀性
机译:等离子体和离子蚀刻用于失效分析。第2部分。使用Technics Giga Etch 100-E等离子蚀刻系统对塑料封装和其他半导体器件材料进行蚀刻