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【24h】

Electrochemical Atomic-Layer Epitaxy:Electrodeposition of InAs and InSb

机译:电化学原子层外延:INAS和INSB的电沉积

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摘要

Electrochemical atomic-layer epitaxy (EC-ALE) is an approach to electrodepositing thin-films of compound semiconductors.It takes advantage of underpotential deposition (UPD),deposition of a surface limited amount (a monolayer or less) of an element at a potential less negative than bulk deposition,to form a thin-film of a compound-one atomic layer at a time.Ideally,the 2-D growth mode should promote epitaxial deposition.
机译:电化学原子层外延(EC-ALE)是用于化合物半导体的薄膜的方法。它利用潜在的沉积沉积(UPD),沉积有限的元素的表面有限量(单层或更少)比散装沉积更少,以一次形成化合物 - 一种原子层的薄膜。eALLY,2-D生长模式应促进外延沉积。

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