磁性薄膜における磁化ダイナミクスの新規計測法の開発

摘要

近年，磁性薄膜の磁化ダイナミクスの研究は，磁気物性だけでなく磁気デバイス応用においても重要である．この磁化ダイナミクスを把握する上で，ダンピング定数（a)は主要なパラメータのひとつである．我々はこれまでにNi-Fe 膜のαが飽和磁気ひずみと関係が深いことを明確にしてきた．これらのパラメータの関連性をより詳細に検討するためには，一つの試料を用いて同時にこれらのパラメータを評価することが重要である．本研究では，磁気信号検出用プローブを磁性薄膜に近接させ，強磁性共鳴周波数の応力負荷の有無による変化を計測し，飽和磁気ひずみとダンピング定数を評価した．