机译:L. Rubin等人对“通过TiSi / sub 2 /薄膜注入砷和硼并进行快速热退火形成浅结二极管”的评论和答复
机译:通过硅化钛膜注入砷和硼并快速热退火形成浅结二极管
机译:Si-和Si_xGe_(1-x)超浅结注入后和高级快速热退火中硼扩散的非高斯局部密度扩散(LDD-)模型。
机译:通过注入C49 TiSi_2和快速热退火,应力增强了砷化钛结中砷的扩散。
机译:使用脉冲阴极电弧沉积和快速热退火制备C54钛硅化物薄膜。
机译:快速注热退火后注入低通量Si +的SiO2薄膜在室温下的光致发光位移
机译:用自对准硅化物工艺形成TiSi2 / n + p浅结的硅化物掺杂技术