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机译:SiOCH上自形成的Mn氧化物阻挡层,用于通过金属有机化学气相沉积Mn制备纳米级铜互连
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机译:2,2,6,6-四甲基-2-锡施加3,5-庚烷型到铜的化学气相沉积,用于铜基互连应用。
机译:用于千兆互连技术的铜的电化学沉积。
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机译:2162-8769 / 2012/1(5)/N79/6/$28.00©电化学学会化学气相沉积氮化钴及其作为先进铜互连的粘合增强层的应用
机译:化学气相沉积钇钡(2)铜(3)氧(x)薄膜用于电线应用。