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反応性プラズマ溶射法によるAlN皮膜の作製

机译:反应等离子体喷涂法制备AlN膜

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摘要

本研究では厚膜の作製が可能であり、非酸化物セラミックスの成膜が可能な反応性プラズマ溶射法を利用し、AlN厚膜作製の可能性を調査することを目的としている。実験ではAlN皮膜作製の基礎的な知見を得るために、窒化反応に大きく影響すると考えられるプラズマ作動ガス中の窒素分率を変化させ、それに伴う作製皮膜の変化を観察し、また得られた皮膜に対する特性評価を行った。
机译:在该研究中,可以制造厚膜,并且可以使用能够膜形成非氧化物陶瓷的反应性等离子体喷涂方法来研究AlN厚膜的可能性。在实验中,为了获得Aln薄膜制剂的基本发现,等离子体致动气体中的氮级分认为是主要受氮化反应的影响,并且观察到与其相关的涂膜的变化,并得到的薄膜表征是对的

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