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Influence of target structure on film stress in WTI sputtering

机译:目标结构对WTI溅射膜应力的影响

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摘要

In this report, the effect of sputtering target microstructure on the deposited film stress was investigated. By controlling the metallurgical process, two types of W-10wt
机译:在本报告中,研究了溅射目标微观结构对沉积膜应力的影响。通过控制冶金工艺,两种类型的W-10WT

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