机译:涂层厚度(25-100nm)对TiO 2 sub>薄膜性能的影响,DC磁控溅射用TiO 2 sub>靶和后退火过程
机译:直流磁控溅射法制备的微传感器用微加热器用直流磁控溅射铂薄膜的电学和热学性能
机译:直流(DC)-反应性磁控溅射制备的氮化铝(AlN)薄膜的表面金属态:非相干光的光谱分析
机译:采用从DC磁控溅射法获得的金属锡膜前体通过硫化工艺制备的硫化物
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:反应磁控溅射制备的电致变色铟锡锌氧化物薄膜
机译:用硬涂层DC磁控溅射法制备锡薄膜的特性