Registration Error; Overlay; Reticle; Mask; LELE; RegC; LIS; Fingerprint Correction;
机译:产品覆盖APC(高级过程控制)校正多个指纹基础上的各个时间过滤
机译:通过根据晶锭对晶圆进行分组来改善产品覆盖(OPO)
机译:现场蚀刻工具引起的图案位移控制,以减轻覆盖物非零偏移
机译:通过使用RegC〜®和TWINSCAN™校正来改善场内产品叠加
机译:应用于原子,分子和晶体硅的密度泛函的轨道相关改进(自相互作用校正,Warnier函数)
机译:更正为:基因组编辑在作物改良中的应用和潜力
机译:改进适用于欧洲地球静止导航覆盖系统(EGNOs)的电离层修正,用于地面定位
机译:Li覆盖层的形成,氧化和溅射特性的al-Li合金和W / al-Li复合材料的融合应用。