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【24h】

INFLUENCIA DA RELACAO SOLIDO-LIQUIDO NA ROTA HIDROMETALURGICA DE LIXIVIACAO ACIDA DE PLACAS DE CIRCUITO IMPRESSO DE COMPUTADORES PARA RECUPERACAO DE METAIS

机译:固液关系对金属回收印刷电路板浸出型液化途径的影响

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摘要

O desenvolvimento da industria e a reduCAo do ciclo de vida de eletroeletronicos aumentam a geraCAo dos chamados resIduos de equipamentos eletroeletronicos (REEE). Dentre os REEE, as placas de circuito impresso (PCIs) apresentam um teor de metais em sua composiCAo que as torna importante objeto de estudo visando a recuperaCAo destes metais para fins economicos e, por conseguinte, impede que sejam dispostos no meio ambiente. O presente trabalho tem por objetivos a caracterizaCAo de uma amostra de placa mAe de computadores obsoletos e posterior recuperaCAo dos metais via duas rotas hidrometalurgicas de lixiviaCAo Acida e lixiviaCAo Acida em meio oxidante. A primeira etapa foi realizada com Acido sulfurico 2M por 18 horas e a 95°C; a segunda etapa, de lixiviaCAo em meio oxidante, utilizou tambEm o Acido sulfurico 2M como agente lixiviante, e o peroxido de hidrogEnio como agente redutor, por 6 horas e a 95°C. As duas rotas se diferenciaram entre si na proporCAo solido-lIquido, sendo a primeira de 1:10 e a segunda de 1:20. A rota com proporCAo 1:20 foi a que apresentou resultado mais positivo, com 100% de lixiviaCAo de Ag, Al, Cu, Fe, Ni e Zn.
机译:行业的发展和电气电气的生命周期的减少增加了所谓的电灰朗残留物(Weeee)的产生。间的WEEE,印刷电路板(的PCI)在它们的组合物中的金属含量,使它们的研究,旨在这些金属为经济目的的恢复的一个重要目的,并因此防止它们被布置在所述环境中。本作本作的目的是对氧化浸润的两种湿法渗透和氧化介质浸出的两种液压冶金途径随后恢复金属的毛板样品的表征。第一步用硫酸2M进行18小时,在95℃下进行;第二阶段,在氧化介质中浸出的,也使用硫酸2米作为浸出剂剂,以及氢的过氧化物作为还原剂,6小时和在95℃下这两条路线在自己的液体比例之间不同,1:10和1:20的第二个。占比例1:20的路线是呈现更阳性结果的路线,Ag,Al,Cu,Fe,Ni和Zn的100%浸出。

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