首页> 外文会议>ABM International Congress >NITRETACAO SOB PLASMA POR TELA ATIVA E PLASMA DIRETO/DC DO ACO INOXIDAVEL ENDURECIVEL POR PRECIPITACAO TIPO 17-4 PH
【24h】

NITRETACAO SOB PLASMA POR TELA ATIVA E PLASMA DIRETO/DC DO ACO INOXIDAVEL ENDURECIVEL POR PRECIPITACAO TIPO 17-4 PH

机译:通过活性筛网静脉曲化,通过沉淀型17-4 pH可耐受的不可用的直接等离子体/ DC

获取原文

摘要

A nitretaCAo do aCo inoxidAvel endurecivel por precipitaCAo do tipo 17-4PH foi estudada comparativamente pelos processus de Plasma-DC e de Tela Ativa. Os resultados mostram que os dois processus sAo eficientes em promover a formaCAo da camada nitretada de elevada dureza superficial, cerca de 1300 HV0.025. Entretanto, diferenCas importantes sAo observadas. No processo de Plasma-DC a camada nitretada e composta, alem da martensita acicular saturada em nitrogenio, de nitretos de ferro e cromo precipitados pela supersaturaCAo. No processo de Tela Ativa a precipitaCAo de nitretos de cromo e praticamente suprimida e predominando os nitretos de ferro. Esta diferenCa na sequencia de precipitaCAo de nitretos e inferida como sendo causada pela oferta de nitrogenio. Em Plasma-DC a oferta de nitrogenio e suficiente para a precipitaCAo do nitreto de cromo, o que nAo ocorre em Tela Ativa. A maior profundidade de camada e de endurecimento transversal confirma a maior difusAo de nitrogenio em Plasma-DC. Ainda, em ambos os processus a dureza de partida do substrato envelhecido e preservada apos o ciclo de nitretaCAo.
机译:与血浆-DC和有源筛工艺相比,研究了沉淀型17-4ph的不锈钢不锈钢硝化。结果表明,两种过程都是有效的,促进高表面硬度的氮化层的形成,约1300 hV0.025。但是,观察到的重要差异。在血浆-DC加工中,除了饱和的针状马氏体,在氮气中的饱和针状马氏体外,通过过饱和沉淀的氮化物和铬沉淀。在筛选过程中,激活铬氮化物的沉淀,并且实际上抑制并使铁的氮化物优先。这种氮化物沉淀序列的这种差异,推断为由氮供应引起的。在血浆-DC中,氮气提供氮气,足以沉淀氮化铬氮化物,其在活性屏幕上不会发生。最高深度和横向硬化证实了氮在等离子体DC中的最高扩散。仍然,在硝化循环后处理老化和保存的基材的起始硬度。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号