Palo Alto Research Center, Palo Alto, California, USA;
point defects; doping; impurities; compensation; first-principles calculations;
机译:通过缺陷选择蚀刻和互补方法表征宽带隙半导体(GaN,SiC)
机译:阳离子d态对Ⅲ族氮化物和Ⅱ氧化物宽带隙半导体结构和电子性能的影响
机译:宽带隙半导体中的碰撞电离和高场效应
机译:镉基半导体的电子结构和缺陷物理
机译:宽带间隙半导体中点缺陷的电子顺磁共振谱的高血换相互作用
机译:直接可视化在2D半导体内单个缺陷处的载流子运输和重组
机译:宽带间隙半导体电子注射效应的阴极致发光研究
机译:宽带隙半导体中点缺陷的电子顺磁共振谱中的超精细相互作用。