【24h】

The Role of Ion-assisted Deposition in PVD

机译:离子辅助沉积在PVD中的作用

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摘要

An optimal energy interval in ion-assisted deposition of high crystalline films is predicted in the modeling of ion impacting on surface. The result is in good agreement with the presented experiments. The possible application of the evaluation of ion role for the fabrication of potential thin film materials is expected.
机译:在表面撞击表面的建模中预测了高结晶膜的离子辅助沉积中的最佳能量间隔。结果与所提出的实验一致。预期了用于制备潜在薄膜材料的离子作用评价的可能施加。

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