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【24h】

磁性ナノ粒子を用いた磁気温熱治療における発熱特性の周波数依存性

机译:磁性纳米粒子磁热治疗中放热性能的频率依赖性

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摘要

磁気温熱治療(磁気ハイパーサーミア)は低侵襲のがh治療法として広く実用化されることが期待されている。交流磁界を超常磁性を示す磁性ナノ粒子に印加して発熱させ、その粒子を取り込hだ膿瘍を死滅させるのはその一例である。その場合の発熱量Pは、  P=α χ" fH~2(α:比例定数、χ":磁性ナノ粒子の交流磁化率虚数部、f:印加磁界の周波数、H:印加磁界強度)   (1)で表される。一般的に印加磁界の周波数は数100kHzから数MHzで、磁界強度は数10から数100Gである。(1)式の中で、発熱体である磁性ナノ粒子の物性パラメータはχ“であり、fとHは印加する高周波磁界に関するパラメータである。我々は、より小型の装置を用いて低消費電力で効率よく発熱させるという観点で検討を行っている。発熱体である磁性粒子に関しては、高いχ”,の得られる粒子が望ましいが、印力磁界の周波数や強度に依存することが予想される。そのため対象となる磁性粒子において印加磁界に関する2つのパラメータに対する依存性を調べて、高レゾが得られる条件を知る必要がある。
机译:磁热处理(磁体热疗)预计将广泛投入低侵袭作为H治疗的实际使用。交流磁场施加于磁性纳米粒子的超顺磁性显示和放热的,并且颗粒被并入H至杀脓肿。在这种情况下,发热量P为P = .ALPHA“FH 2(.ALPHA:比例常数,χ”:磁性纳米粒子的交流磁化率虚部,F:施加的磁场频率,H:施加磁场强度)(1它是由表示)。通常,所施加的磁场的频率为几百kHz至几MHz,磁场强度是几十到几十克。其中式(1),参数的磁性纳米颗粒,其是一个加热元件的物理特性是χ”,和F和H是用于高频磁场参数被应用。我们使用更小的装置,以低功耗。在术语有效的热产生的,它被认为是,对于磁性颗粒,这是一种发热元件,高χ”,所获得的颗粒是理想的,但它预期取决于打印磁场的频率和强度。因此,有必要检查与目标磁粒子中的施加磁场相关的两个参数的依赖性,以知道可以获得高分辨率的条件。

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